CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

从2016年起，《化学气相沉积》杂志将作为《先进材料界面》杂志的一部分发表。请点击这里获取更多信息。化学气相沉积(CVD)发表关于化学气相沉积和相关技术的所有方面的评论、短通信和全文，以及其他介绍意见、新闻、会议信息和书评的文章。所有论文都经过同行评审。该杂志为化学家、物理学家和工程师提供了一个统一的论坛，他们关于化学气相沉积的出版物在过去已经遍布于无机化学、材料化学、有机金属学、应用物理和半导体技术、薄膜和陶瓷加工的期刊上。

CHEM VAPOR DEPOS期刊全称叫什么?

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION影响因子是多少?