CHEM VAPOR DEPOS期刊全称叫什么

CHEM VAPOR DEPOS是CHEMICAL VAPOR DEPOSITION期刊的缩写。CHEM VAPOR DEPOS期刊的出版地是GERMANY，主要的研究方向是工程技术-电化学。

从2016年起，《化学气相沉积》杂志将作为《先进材料界面》杂志的一部分发表。请点击这里获取更多信息。化学气相沉积(CVD)发表关于化学气相沉积和相关技术的所有方面的评论、短通信和全文，以及其他介绍意见、新闻、会议信息和书评的文章。所有论文都经过同行评审。该杂志为化学家、物理学家和工程师提供了一个统一的论坛，他们关于化学气相沉积的出版物在过去已经遍布于无机化学、材料化学、有机金属学、应用物理和半导体技术、薄膜和陶瓷加工的期刊上。

该刊的年访问量是0篇，发行周期是Bimonthly，从官网http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862上查到本刊的通讯地址是WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451，投稿地址是。网友对该刊的审稿速度给与的评价是>12周，或约稿，录用比一般是容易。