J APPL SPECTROSC+是Journal of Applied Spectroscopy期刊的缩写。J APPL SPECTROSC+期刊的出版地是BYELARUS,主要的研究方向是物理-光谱学。

《应用光谱学杂志》报道了光谱学在物理、化学、材料科学、医学、生物学、生态学和光谱仪器工业中的重要应用。越来越多的论文集中在激光理论,以及激光在许多领域和行业的实际应用的巨大潜力。杂志上发布新应用光谱学和其他相关领域的调查结果在下列主题:原子光谱学、分子光谱学、发光、激光光谱学、非线性光谱,光谱散射介质,固体光谱学,纳米结构的光谱,光谱气体和等离子体的光谱在生物学和医学中,光谱在环境研究中,设备和光谱学方法,光学材料。《应用光谱学杂志》是同行评议的俄罗斯语言期刊《周尔纳普里克拉多诺》的翻译。如欲获得更多资料,请浏览编辑网页,网址如下:http://imaph.bas-net.by/JAS/engl/
该刊的年访问量是188篇,发行周期是Bimonthly,从官网http://www.springerlink.com/content/0021-9037上查到本刊的通讯地址是SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013,投稿地址是。网友对该刊的审稿速度给与的评价是平均1.0个月,录用比一般是容易。
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