J MICRO-NANOLITH MEM是Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS期刊的缩写。J MICRO-NANOLITH MEM期刊的出版地是UNITED STATES,主要的研究方向是工程技术-工程:电子与电气。

《微纳米光刻机MEMS和MOEMS杂志》(JM3)发表了有关光刻、制造、包装和集成技术的科学、发展和实践的论文,以满足电子、MEMS、MOEMS和光子学行业的需要。这类装置的范围很广,包括生物医学微装置、微流体、传感器和执行器、自适应光学和数字微镜。范围广泛,有助于促进期刊服务的社区之间的协同作用和利益。
该刊的年访问量是0篇,发行周期是Quarterly,从官网http://www.spie.org/publications/journals/journal-of-micro/nanolithography-mems-and-moems上查到本刊的通讯地址是SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225,投稿地址是https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex。网友对该刊的审稿速度给与的评价是较慢,6-12周,录用比一般是容易。
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