J LASER APPL期刊全称叫什么

J LASER APPL是JOURNAL OF LASER APPLICATIONS期刊的缩写。J LASER APPL期刊的出版地是UNITED STATES，主要的研究方向是物理-材料科学：综合。

激光应用杂志(JLA)是美国激光研究所(LIA)的科学平台，与AIP出版社合作出版。高质量的文章涵盖从基础和应用的研究和开发到工业应用的广泛范围。因此，JLA反映了光子生产、传感和测量以及激光安全性方面的研发现状。由于当前巨大的社会挑战，如资源节约、能源、移动、健康和国防，应用光子学的焦点和趋势在过去几年发生了显著的变化。因此，JLA的结构已经得到了改进，以满足这些趋势，同时根据科学领域的能力保持结构。下列国际知名的一流科学家担任9个新类别的编委:用超快激光加工高精度材料- Andreas Ostendorf激光增材制造——米兰·勃兰特高功率材料加工与高亮度激光-埃克哈德拜尔激光技术在高性能/多功能材料和结构中的新兴应用——顾东东表面改性-钟敏林激光在纳米制造/纳米光子学和薄膜技术-兰江光谱/成像/诊断/测量- Dave Farson激光系统和市场-克劳斯洛夫勒医疗应用与安全-戴夫斯利尼

该刊的年访问量是179篇，发行周期是Quarterly，从官网http://scitation.aip.org/content/lia/journal/jla上查到本刊的通讯地址是LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826，投稿地址是http://jla.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex。网友对该刊的审稿速度给与的评价是>12周，或约稿，录用比一般是容易。