IEEE T ELECTRON DEV是IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES期刊的缩写。IEEE T ELECTRON DEV期刊的出版地是UNITED STATES,主要的研究方向是工程技术-工程:电子与电气。

IEEE《电子器件学报》发表了有关电子和离子集成电路器件和互连的理论、建模、设计、性能和可靠性方面的原创和重大贡献。
该刊的年访问量是1123篇,发行周期是Monthly,从官网http://ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=16上查到本刊的通讯地址是IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141,投稿地址是https://mc.manuscriptcentral.com/ted。网友对该刊的审稿速度给与的评价是平均4.7个月,录用比一般是较易。
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